近日，我校化学与分子工程学院朱为宏教授课题组在发展新型光响应聚集诱导发光（AIE）染料体系的研究中取得了突破性进展，相关研究成果以“Unraveling dual aggregation-induced emission behavior in steric-hindrance photochromic system for super resolution imaging”为题发表在国际学术期刊《德国应用化学》(Angewandte Chemie International Edition)上。

 

聚集诱导发光AIE材料由于其高效的固体发光效率，在有机发光二极管、诊断治疗学、原位监测等领域受到了广泛关注。光信号具有独特的非侵入、时空分辨率高和完全可逆性等众多优点，然而由于缺少合适的体系或结构砌块（building block），光响应型多模式AIE材料的构筑仍存在很大的挑战性。

 

光致变色染料二芳基乙烯体系具有独特的热双稳定性、可逆性且高效的光响应性和优异的抗疲劳性能。基于朱为宏课题组独特的苯并二噻二唑位阻型烯桥染料体系，发展了系列不同空间位阻的光致变色染料，首次揭示了该系列光响应分子开环体和闭环体两种光可逆异构体不同模式的聚集诱导发光机制，完美实现了分子内旋转受限(RIR)和分子内振动受限(RIV)两种机制调控，并探讨了空间位阻对光响应性能和AIE性能的影响，为发展新型光响应AIE单元提供了全新的研究思路和设计准则。同时，该光响应AIE单元成功实现了在超分辨荧光成像领域的应用，拓宽了AIE材料的应用前景。

 

 

该工作由博士生杨虹和博士后李萌祺在朱为宏教授的指导下完成，并得到了田禾院士的指导，相关超分辨成像研究得到了华中科技大学朱明强教授课题组的大力支持。该研究成果得到了国家自然科学基金基础科学中心项目和重点项目、上海市重大专项、以及“111”引智计划等项目资金的支持。

 

相关链接:https://www.onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/anie.201909830

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